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G-43B4型简易光刻机

简介—— 一. 设备概述:G—43B4型密光刻机是根据市场需求研发的产品,通常情况下为Φ4",对被光刻基片的外形、厚度要求较低,可

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一. 设备概述:

G—43B4型密光刻机是根据市场需求研发的产品,通常情况下为Φ4",对被光刻基片的外形、厚度要求较低,可对多种材料的基片进行光刻,它特别适用做一次光刻的产品,可制作声表面器件、可控硅、小液晶显示器、传感器、二极管、园光栅、编码盘等。加之光均匀性好(Φ100mm范围内≤±4%),所以大大提高了设备的光刻质量。

二、主要技术参数:

1. 操作方式:手动;

2. 曝光模式:接触式曝光;

3. 曝光面积Φ4";

4. 紫外光源:g线(436nm)或i线(365nm);

5. 曝光分辨率:3um;

6. 曝光头汞灯为GCQ350W型超高压直流球形汞灯。

三.结构简介:

G—43B4型光刻机主要由以下部份组成:

1、多点光源曝光头:

曝光头采用GCQ350W型超高压直流球形汞灯,紫外光源:g线(436nm)或i线(365nm)非常有利于光刻,光的均匀性很好,不均匀性测量在Φ100mm范围内≤±4%,冷却方式为风冷(内装排风扇)

2、电器控制系统:

1) 打开电源开关(面板上标“电源”开关),按汞灯按钮,汞灯自然打开。待汞灯亮度正常后(一般需要15分钟以上),可以进行如下操作。

2) 放基片到台面上(注意放基片的位置和方向),然后放掩膜版到基片上(当然也要注意版放的位置和方向)。调整好你所需的曝光时间,按“曝光”按钮进行曝光。




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