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G-25D型高精密单面光刻机(LED)

简介—— 一、 主要用途: 本设备是我公司专门针对各大专院校、企业及科研单位对光刻机的使用特性研发的一种精密光刻机,它 主要用于中

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一、 主要用途:

本设备是我公司专门针对各大专院校、企业及科研单位对光刻机的使用特性研发的一种精密光刻机,它 主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

二、 主要性能指标

1、曝光类型:单面;

2、曝光面积:150×150mm

3、曝光照度不均匀性:≤±3%

4、曝光强度:≤30mw/cm2可调;

5、紫外光束角:≤3

6、紫外光中心波长:365nm

7、紫外光源寿命:≥2万小时;

8、采用电子快门;

9、曝光分辨率:1μm

10、曝光模式:可选择一次曝光或套刻曝光;

11、对准范围:XY 调节 ±4mmQ向调节±3°;

12、套刻精度:1μm

13、分离量;050μm可调;

14、曝光方式:密着曝光,可实现硬接触、软接触和微力接触曝光;

15、找平方式:气浮找平;

16、显微系统:双视场CCD系统,显微镜91X570X连续变倍(物镜1.6X10X连续变倍),双物镜距离可调范围50mm120mm,计算机图像处理系统,19″液晶监视器;

17、掩模版尺寸:152×152mm

18、基片尺寸: 110×110mm;

19、基片厚度:≤5 mm

20、曝光定时:0999.9秒可调;

21、电源:单相AC220V  50HZ ,功耗≤1KW

22、洁净空气压力:≥0.4MPa

23、真空度:-0.07MPa~-0.09MPa

24设备所需能源:

主机电源: 220V±10%   50HZ,1KW。

洁净空气≥0.4MPα。

真空:-0.07~-0.08MPα。

25.G-25D型高精密光刻机的组成:

LED紫外曝光头、CCD显微显示系统、对准工作台、电气控制系统构成。


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